반도체 협업 디자인

보다 향상된 요소의 모듈화를 통해 보다 빠른 디자인 통합

반도체 디자인은 상상을 초월할 정도로 복잡합니다. 경쟁력 있는 통합된 서킷(ICs)를 생산하기 위하여, 디자인 회사들은 오늘날 생산력과 엔지니어적 가치를 최대화하기 위해 전문화된 디자인 팀과 복잡한 디자인 워크플로우를 사용하고 있습니다. 그에 따른 결과로, 복잡한 체계적 디자인들과 분배된 디자인 센터들은 오늘날, IC 상품 디자인의 일상의 현실이 되고 있습니다. 이러한 조직과 프로세스 매트릭스 성공을 보장하기 위해, 협업적 디자인의 올바른 토대와 정보 시스템이 필수적입니다.  이는 대규모의 분산된 팀에 그 스케일을 맞추고 지적 재산(IP)의 재사용 및 분산 최적화를 지원하며, 멀티플 어플리케이션 플랫폼에 적용가능할 수 있어야 하며, 디자이너들이 "디자인" 활동을 원활히 할 수 있도록 도와주고 정보 억세스와 매니지먼트 간접비를 최소화해야 합니다. 

Silicon Thinking Semiconductor Collaborative Design 솔루션은 오늘날 120 개 이상의 개발 기업에 의해 사용되어지고 있으며, 이들 기업 중에는 디자인 생산성 면에서 세계 최첨단을 달리는 15개 반도체 선두 기업 중 13개 기업이 포함되어 있습니다.

ENOVIA® Synchronicity® DesignSync®에 기반을 둔 이 솔루션은 전체 디자인 조직에 걸쳐 효과적으로 디자인 데이터를 관리하고 있습니다. 이 솔루션은 디자인 팀으로 하여금 디테일한 디자인 요소 레벨과 프로젝트 레벨 등 양쪽 레벨 모두에서 데이터를 관리할 수 있게 해 줍니다. 디테일한 디자인 요소들은 "모듈"로서 캡슐화되어 그 후 쉽고 효과적으로 최종 디자인에 효과적으로 반영되게 됩니다. 이러한 모듈화적 접근 방식은 이 솔루션을 그 밖의 다른 디자인 데이터 관리(DDM) 시스템과 차별화시켜주는 요소입니다. 개별적 팀들로부터 보내어진 디자인 데이터들은 보다 높은 레벨의 디자인들로 완벽하게 통합되어질 수 있습니다. 

이 솔루션은 또한 ENOVIA® Pinpoint로부터의 기술을 포함하고 있어 심오한 수준의 디자인 분석을 가능하게 해 주고 있습니다. 통합된 서킷 디자인들 위한 구조적 배치와 시계적 솔루션은 궁극적으로 엔지니어들이 마이크로프로세서, 그래픽 서킷, 그리고 65nm, 45nm, 그 이하의 DSP 서브시스템보다 향상된 칩 퍼포먼스를 달성할 수 있도록 도와주고 있습니다. 웹 상에서의 협업, 억세스, 이행은 분산된 팀원들에게 보다 쉬운 억세스를 제공하게 됩니다.

주요 하이라이트와 장점:

  • 디자인 생산성을 상당한 수준으로 향상하여 빠른 투자 회수와 강력한 투자 수익(ROI)를 가져다 줌
  • 현존하는 디자인과 내장된 소프트웨어의 활용 능력을 최대화
  • 협업 효율성을 높임으로써 타임-투-마켓(상품을 시장에 선보이기까지 걸리는 시간)을 감소
  • 다양한 전자 설계 자동화(EDA) 툴들로부터의 데이터들을 통합