セミコンダクター・コラボレーティブ・デザイン

高度な要素モジュール化による設計統合の高速化

半導体の設計は非常に複雑です。 設計する企業は、競争力のある集積回路(IC)を生産するために、特化した設計チームと複雑な設計ワークフローを利用して、エンジニアの生産性と価値を最大にしています。 その結果、IC製品の設計では、複雑な階層設計と分散した設計センターが日常的な現実になっています。 この組織とプロセス・マトリックスを正常に運営するには、コラボレーション設計と情報システムの適切な基盤が不可欠です。 この基盤は、分散した大きなチームにスケールを合わせ、知的財産(IP)の再利用とバリアントの最適化をサポートする必要があります。また、複数のアプリケーション・プラットフォームに適用して設計者が「設計」を続けられるようにし、情報アクセスと管理のオーバーヘッドを最低限にする必要もあります。

今日、Silicon Thinking Semiconductor Collaborative Designソリューションは120以上の開発組織によって使用されています。上位15社の半導体企業のうち13社もこのソリューションを使用して、設計の生産性を上げています。

このソリューションでは、ENOVIA® Synchronicity® DesignSync®に基づいて設計組織全体の設計データを効率的に管理します。 設計チームは、詳細設計要素レベルでもプロジェクト・レベルでもデータを管理できます。 詳細設計要素は「モジュール」としてカプセル化され、最終設計に簡単かつ効率的に統合できます。 このソリューションを他の設計データ管理(DDM)システムと差別化するのが、このモジュール型の手法です。 それぞれのチームが作成した設計データは、高いレベルの設計にシームレスに統合できます。

このソリューションにはENOVIA® Pinpointの技術も組み込まれ、高度な設計解析が可能になっています。 集積回路設計の構造化された配置と可視化ソリューションにより、65nm、45nmまたそれ以下で マイクロプロセッサー、グラフィック回路、DSPサブシステムのチップ・パフォーマンスを向上させることができます。 Webによるコラボレーション、アクセス、実装によって、分散したチーム・メンバーに簡単にアクセスできます。

主な特徴と利点:

  • 設計の生産性が大幅に向上し、迅速な資本回収と投資収益率の拡大
  • 既存の設計と組み込みソフトウェアの再利用の可能性を最大化
  • コラボレーションの効率を向上させ製品化までの時間を短縮
  • 多くのEDA(Electronic Design Automation)ツールからデータを統合